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J-GLOBAL ID：201702246436145499   整理番号：17A0055061

多重パターニング技術における製造可能性を意識したマスク帰属【Powered by NICT】

Manufacturability-aware mask assignment in multiple patterning lithography

著者 (6件)： Kohira Yukihide (The University of Aizu, Aizu-Wakamatsu, Japan) ,  Takahashi Atsushi (Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan) ,  Matsui Tomomi (Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan) ,  Kodama Chikaaki (Toshiba Corporation, Storage & Electronic Devices Solutions Company, Yokohama, Japan) ,  Nojima Shigeki (Toshiba Corporation, Storage & Electronic Devices Solutions Company, Yokohama, Japan) ,  Tanaka Satoshi (Toshiba Corporation, Storage & Electronic Devices Solutions Company, Yokohama, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： APCCAS  ページ： 538-541  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プロセス技術の進歩に伴い,多重パターニングリソグラフィー(MPL)は22nm論理ノードで最も有望な技術の一つである。MPLでは,特徴は曝露によるウエハ上に形成された反復的に行った。マスクミスアラインメントは,MPL過程で引き起こされる,MPLで生産されたLSIの収率を減少させた。マスクミスアラインメントによる収量損失を防ぐために,製造性考慮するマスク割当法が望まれている。MPLの最近のマスク割当技術を紹介した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *パターン形成 ,  LSI【IC】 ,  *多重化 ,  *製造可能性

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 多重 ,  パターニング ,  製造可能性 ,  意識 ,  マスク