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J-GLOBAL ID:201702249734474807   整理番号:17A1309752

プラズマ浸漬イオン注入及び堆積における増加する堆積率のための開放領域を持つ試料ホルダ

Note: Sample holder with open area for increased deposition rate in plasma immersion ion implantation and deposition
著者 (6件):
資料名:
巻: 88  号:ページ: 096106-096106-3  発行年: 2017年09月 
JST資料番号: D0517A  ISSN: 0034-6748  CODEN: RSINAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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大きい開放領域を持つ試料ホルダは,プラズマが試料ホルダに印加する高電圧によって発生する,プラズマ浸漬イオン注入及び堆積の工程で使われるとき,いくつかの利益を提供する:プラズマの点火電圧はより低く,堆積率は通常の板様ホルダの場合におけるより数倍高くなり得る。膜厚に関してより顕著なエッジ効果がある。他の膜特性もまた影響され,ダイヤモンド様炭素膜では膜構造はより多くの無秩序を示す。試料の硬度は似ており,非常に滑らかな試料の表面を持つ。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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薄膜成長技術・装置 
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