文献

J-GLOBAL ID：201702249961708296   整理番号：17A1090437

少ないオーバレイサンプリングでプロセス補正を正確に決定する計算予測と測定データを用いた複合解法

A hybrid solution using computational prediction and measured data to accurately determine process correction with reduced overlay sampling

著者 (7件)： NOYES Ben F., III (Samsung Austin Semiconductor LLC, TX, USA) ,  MOKABERI Babak (Samsung Austin Semiconductor LLC, TX, USA) ,  MANDOY Ram (Samsung Austin Semiconductor LLC, TX, USA) ,  PATE Alex (Samsung Austin Semiconductor LLC, TX, USA) ,  HUIJGEN Ralph (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  MCBURNEY Mike (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  CHEN Owen (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10145  号： Pt.1  ページ： 1014508.1-1014508.6  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 正確な自動プロセス補正(APC)フィードバック系によるオーバレイ誤差低減は,半導体大量生産における主要な課題である。オーバレイフィードバック系はオーバレイ仕様を満たすダイ数及び製造フローを介して専用の露光ツールを必要とする層数に直接影響を与える。本論文では,少ないオーバレイサンプリングでプロセス補正を正確に決定する計算予測と測定データを用いた複合解法を示した。単線コムは測定した製品上のオーバレイを有意に改善することを示した。また,APCシステムによる局所オーバレイ誤差の最適化を可能にする。この改善は単線CPE(露光野毎補正)法へのさらなる素子層の変更を可能にし,オーバレイ容量を大きくし,製品へのCPEの適用を広げる。

シソーラス用語： *補正 ,  フィードバック系 ,  *精度 ,  *半導体プロセス ,  重合せ ,  計算モデル ,  計測 ,  リソグラフィー
準シソーラス用語： オーバレイ計測 ,  *オーバレイ精度 ,  *プロセス補正 ,  マイクロリソグラフィー ,  自動プロセス補正 ,  露光野毎補正

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： オーバレイ ,  サンプリング ,  プロセス ,  計算 ,  予測 ,  測定データ ,  解法