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J-GLOBAL ID：201702254679277709   整理番号：17A1899442

表面偏析した側鎖型液晶性ブロック共重合体による高密度高分子ブラシ表面の構築

著者 (4件)： 向井孝次 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院) ,  永野修作 (名古屋大)
資料名： ポリマー材料フォーラム講演予稿集
巻： 26th  ページ： 100  発行年： 2017年11月01日 
JST資料番号： L2062A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 表面偏析 ,  側鎖 ,  *ブロック共重合体 ,  *高分子液晶 ,  分子集合体 ,  分子配向 ,  *アゾ化合物 ,  芳香族化合物 ,  *ポリスチレン ,  自己組織化 ,  分子鎖 ,  高分子膜 ,  焼なまし ,  添加物効果 ,  接触角 ,  表面エネルギー ,  重合度 ,  スメクチック相 ,  ラメラ ,  分子量
準シソーラス用語： 液晶性ブロック共重合体 ,  高分子集合体

分類 (2件)： その他の液晶  (BK03030H) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： アゾベンゼン

タイトルに関連する用語 (5件)： 表面偏析 ,  側鎖 ,  液晶性ブロック共重合体 ,  高分子ブラシ ,  構築