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J-GLOBAL ID:201702256404118344   整理番号:17A0539841

アルミナ表面不動態化による多層グラフェン透明電極を有するInGaN/GaNナノロッドLEDの顕著な性能向上

Significant performance enhancement of InGaN/GaN nanorod LEDs with multi-layer graphene transparent electrodes by alumina surface passivation
著者 (14件):
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巻: 28  号:ページ: 055201,1-7  発行年: 2017年02月03日 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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青色発光ダイオード(LED)に使用されているInGaNやGaNは,通常サファイヤやシリコンなどの異種基板上に堆積されている。この場合には,高い界面応力による量子シュタルク効果や貫通転位の発生により,発光効率が減少していた。そこで,異種基板上に形成されたInGaNやGaNを反応性イオンエッチング(RIE)技術を用いて,量子井戸となるInGaNナノロッド(NR)などを形成し,応力を緩和することによって,発光効率を改善する試みがなされている。しかし,InGaN/GaNのNRをRIE法によって形成するさい,NR表面にエッチングダメージが発生し,表面酸化により界面準位が発生し,十分な発光効率が得られなかった。本研究においては,RIEダメージ層をKOH溶液で除去し,表面保護膜としてアルミナを堆積した。その結果,多層グラフェン透明電極を有するNR-LEDの発光性能がKOH処理後に約50%向上し,アルミナ膜の不動態処理後に80%増加した。
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分類 (2件):
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発光素子  ,  固体デバイス製造技術一般 

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