Ohno Yutaka について
Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba, Sendai 980-8577, Japan について
Yoshida Hideto について
The Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR), Osaka University, Mihogaoka 8-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan について
Takeda Seiji について
The Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR), Osaka University, Mihogaoka 8-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan について
Jianbo Liang について
Graduate School of Engineering, Osaka-City University, Sugimoto 3-3-138, Sumiyoshi, Osaka 558-8585, Japan について
Shigekawa Naoteru について
Graduate School of Engineering, Osaka-City University, Sugimoto 3-3-138, Sumiyoshi, Osaka 558-8585, Japan について
IEEE Conference Proceedings について
ケイ素 について
透過型電子顕微鏡 について
ヒ化ガリウム について
表面欠陥 について
界面 について
GaAs基板 について
界面抵抗 について
透過型電子顕微鏡法 について
表面活性化 について
半導体薄膜 について
室温 について
表面活性化 について
ボンディング について
作製 について
Si について
GaAs について
界面 について
透過型電子顕微鏡観察 について