文献

J-GLOBAL ID：201702257257450281   整理番号：17A1003327

溶液処理によるMoO_x/Ag/MoO_x透明電極

MoO_x/Ag/MoO_x transparent electrode by solution process

著者 (4件)： KAN Ryota (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN) ,  YAMANO Yuka (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN) ,  TANI Tadaaki (Soc. of Photography and Imaging of Japan, Tokyo, JPN) ,  UCHIDA Takayuki (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 5S2  ページ： 05EB05.1-05EB05.5  発行年： 2017年05月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： インジウムスズ酸化物(ITO)のような従来の透明電導酸化物と比較して特有である誘電体-金属-誘電体(DMD)多層膜を調べた。この研究では,誘電体材料,および金属としてそれぞれMoO₃,およびAgを選択し,真空蒸発法に加えてナノ噴霧法を使用した。膜の透過スペクトルは,Ag形態がAg層厚の増加に伴って孤立島から連続層に変化し,形態変化はMoO₃によって増強された。それから,MoO₃/Ag/MoO₃(MAM)多層構造透明電極が真空蒸発法のみならずナノ噴霧法によって製作可能であることを示した。比較試験がそれらの応用のためにこれらの2つの方法によって製作されたMAM膜の特性についてなされた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *透明電極 ,  酸化インジウムスズ ,  *多層膜 ,  誘電体 ,  処理 ,  *噴霧法 ,  蒸発 ,  酸化モリブデン ,  銀 ,  スペクトル
準シソーラス用語： ITO ,  三酸化モリブデン ,  真空蒸発 ,  透過スペクトル ,  溶液処理

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の電気・電子部品  (NA05090R)

引用文献 (40件)：

• M. Bender, W. Seelig, C. Daube, H. Frankenberger, B. Ocker, and J. Stollenwerk, Thin Solid Films 326, 67 (1998).
• J.-A. Jeong and H.-K. Kim, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 93, 1801 (2009).
• X. Liu, X. Cai, J. Mao, and C. Jin, Appl. Surf. Sci. 183, 103 (2001).
• X. Liu, X. Cai, J. Qiao, J. Mao, and N. Jiang, Thin Solid Films 441, 200 (2003).
• J. Leng, Z. Yu, W. Xue, T. Zhang, Y. Jiang, J. Zhang, and D. Zhang, J. Appl. Phys. 108, 073109 (2010).

タイトルに関連する用語 (3件)： 溶液処理 ,  Ag ,  透明電極