Zhao Jun について
Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China について
Wu Yanqing について
Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China について
Xue Chaofan について
Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China について
Yang Shumin について
Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China について
Wang Liansheng について
Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China について
Zhu Fangyuan について
Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China について
Zhu Zhichao について
Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology, School of Physics Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China について
Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology, School of Physics Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China について
Wang Yong について
Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China について
Tai Renzhong について
Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China について
Microelectronic Engineering について
光子 について
アスペクト比 について
周期構造 について
ナノ構造 について
回折格子 について
シンチレータ について
ポリメタクリル酸メチル について
フォトレジスト について
軟X線 について
最適化 について
抽出効率 について
光取出し効率 について
ナノスケール について
高アスペクト比 について
干渉リソグラフィー について
周期構造 について
シンチレータ について
軟X線干渉リソグラフィー について
高アスペクト比 について
固体デバイス製造技術一般 について
軟X線 について
干渉リソグラフィー について
高アスペクト比 について
ナノスケール について
周期構造 について
作製 について