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J-GLOBAL ID：201702258683133709   整理番号：17A1090390

0.33NA EUVLにおけるN7暗視野二棒: 特徴のプライマリ画像と一次自己画像の間の強い結合で生じたCD Bossung傾斜の軽減

N7 dark field two-bar in 0.33NA EUVL: Mitigation of CD Bossung tilts caused by strong coupling between the feature’s primary and 1st self-image

著者 (7件)： LAST T. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  VAN ADRICHEM P. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  DE WINTER L. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  HSU S. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  FINDERS J. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  WITTEBROOD F. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  VAN DE KERKHOF M. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10143  ページ： 1014311.1-1014311.6  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： EUVリソグラフィー(EUVL)におけるN7暗視野二棒に対する強度駆動マスク3D効果を調べた。暗視野二棒はフォーカスに依存するCD非対称性とBossung傾斜を表示する。ここでは,瞳孔面σY∈[0.54,0.74]における特定の位置により誘起したBossung傾斜の場合に焦点を合わせた。空間像を分解することで,マスク3D効果が回折次数における強度不均衡と特徴の自己画像への強い結合による生じることを見出した。それらの影響は本論文で論じた様々な解決法で除去できる。実験により,最適化光源と最適に配置した補助特徴は重なったプロセスウィンドウをかなり広げることを確認した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *画像 ,  長さ ,  *傾斜 ,  無次元数 ,  許容範囲
準シソーラス用語： *Bossung傾斜 ,  *EUVリソグラフィー ,  クリティカルディメンジョン ,  マスク三次元効果 ,  回折次数 ,  *空間像 ,  プロセスウィンドウ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： EUVL ,  暗視野 ,  棒 ,  自己 ,  Cd