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J-GLOBAL ID：201702261630156360   整理番号：17A0453606

DUVリソグラフィーのための亜鉛オキソクラスタフォトレジストの化学的および構造的研究【Powered by NICT】

Chemical and structural investigation of zinc-oxo cluster photoresists for DUV lithography

著者 (6件)： Yeh Chun-Cheng (Institut de Science des Materiaux de Mulhouse (IS2M), CNRS - UMR 7361, Universite de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, Mulhouse, France. [e-mail] [e-mail]) ,  Liu Hung-Chuan ,  Heni Wajdi ,  Berling Dominique ,  Zan Hsiao-Wen ,  Soppera Olivier
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 5  号： 10  ページ： 2611-2619  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属オキソクラスタフォトレジストは無機及び有機特徴の利点を組み合わせたそれらの興味ある性質のために,近年多くの注目を集めている。それらの有機官能基は,光子または電子ビームリソグラフィー金属酸化物ミクロまたはナノ構造にそれらパターン形成の可能性を提供する。無機金属酸化物フレームワークのおかげで,これらのパターンは,純有機パターンよりも可視光領域で高いエッチング抵抗性と屈折率を示した。さらに,フォトレジストビルディングブロックのナノサイズは,高解像度リソグラフィーに適している。光パターン化された構造のサイズ,形状及び物理的性質に及ぼす物理化学的パラメータの影響の深い理解を得るために,深紫外(DUV)リソグラフィーと組み合わせた亜鉛オキソクラスタフォトレジストに詳細に調査を行った。結果は材料パターニングに対するDUV照射及び熱処理の両方の影響を示した。パターンの形状に強い影響を持つので,結晶化の影響を特に検討した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 高分解能 ,  電子ビームリソグラフィー ,  *リソグラフィー ,  物理化学 ,  金属酸化物 ,  エッチング ,  ナノ構造 ,  屈折率 ,  光子 ,  結晶化 ,  パターン形成
準シソーラス用語： 深紫外線 ,  可視領域 ,  官能基 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体薄膜  (BK14040E) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E)

タイトルに関連する用語 (4件)： リソグラフィー ,  亜鉛 ,  化学 ,  研究