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J-GLOBAL ID：201702272128944582   整理番号：17A1300575

スルホン化ポリイミド薄膜における側鎖構造のプロトン伝導性への影響

著者 (6件)： 小野祐太朗 (北陸先端科学技術大学院大) ,  後藤崚介 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  安部隆 (新潟大 大学院) ,  長尾祐樹 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 66  号： 2  ページ： ROMBUNNO.2U10  発行年： 2017年09月06日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリイミド ,  スルホン化 ,  *リオトロピック液晶 ,  電気伝導率 ,  プロトン伝導 ,  側鎖型高分子液晶 ,  *高分子薄膜 ,  スルホン化ポリイミド

分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (4件)： スルホン化 ,  ポリイミド薄膜 ,  側鎖 ,  プロトン伝導性