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J-GLOBAL ID：201702272641850569   整理番号：17A1804302

磁場制御による平面および凹面に対する精密研磨特性

著者 (5件)： 西田均 (富山工高専) ,  島田邦雄 (福島大) ,  井門康司 (名古屋工大) ,  百生登 (富山工高専) ,  山本久嗣 (富山工高専)
資料名： 砥粒加工学会誌  (Abrasive Technology)
巻： 61  号： 12  ページ： 666-673  発行年： 2017年12月01日 
JST資料番号： L0473A  ISSN： 0914-2703  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では平面や凹面に対して,磁気混合流体(MCF)を用いて,直流磁場とパルス磁場を印加した場合の研磨特性を実験的に明らかにした。MCFを用いた定点の平面研磨では,直流磁揚とパルス磁場(f=0.1Hz)での研磨に及ぼす工具と加工表面の間隔の影響を調べた。直流磁場では加工特性は工具と加工表面の隙間間隔δにより異なることがわかった。一方,パルス磁場の場合,加工特性はδ=0.75~1.75mmの範囲で同じであることがわかった。また,平面内に深さ0.5mmの凹面を有する被研磨物に対して,工具の水平移動のみによる研磨を行った場合,パルス磁場の方が直流磁場より形状精度を保持した研磨が行われることが明らかになった。(著者抄録)

シソーラス用語： 平面 ,  凹面 ,  *精密研削 ,  *磁性流体 ,  混合液体 ,  *磁場 ,  パルス ,  直流 ,  周波数 ,  工作物 ,  工具 ,  間隔 ,  研磨面 ,  形状精度 ,  工作精度 ,  依存性 ,  表面粗さ
準シソーラス用語： 距離依存性

分類 (1件)： 研削  (QC03000R)

引用文献 (9件)：

• 1) N. Umehara, H. Aoyagi and A. Shinomura: Lapping of Glass Plate with Magnetic Fluid and Magnetic Field, Trans. Jpn. Soc. Mech. Eng., Ser. C, 75, 757(2009)2423(in Japanese).
• 2) K. Shimada: Characteristics of intelligent fluid and its relation to polishing utilizing intelligent fluid, J. Jpn. Soc. Abras. Technol., 56,5(2012)291(in Japanese).
• 3) W. Kordonsky and D. Golini: Progress update in magnetorheological finishing, Proc. of the 6th Int. Conf. Electoro-Rheological Fluids, Magneto-Rheological Suspensions and Their Applications, (1997)837.
• 4) K. Shimada, Y. Matsuo and K. Yamamoto: Study on Float Polishing Utilizing New Magnetic Responsive Intelligent Fluid, J. Jpn. Soc. Exp. Mech., 7,2(2007)168(in Japanese).
• 5) Y. Matsuo, K. Yamamoto, T. Nakamura, R. Hanamura and K. Shimada: Three-Dimensional Nanolevel Polishing Using MCF, J. Magn. Soc. Ppn., 31,1(2007)122(in Japanese).

タイトルに関連する用語 (4件)： 磁場 ,  凹面 ,  精密 ,  研磨特性