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J-GLOBAL ID：201702272975865252   整理番号：17A1013186

リモートプラズマ増強原子層蒸着を用いたZrO₂成長に対するカットオフ現象効果

The Cut-Off Phenomenon Effect on ZrO₂ Growth Using Remote Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition

著者 (8件)： CHEN Zheng (Jilin Univ., Jilin, CHN) ,  WANG Haoran (Jilin Univ., Jilin, CHN) ,  XIONG Pengpeng (Jilin Univ., Jilin, CHN) ,  CHEN Ping (Jilin Univ., Jilin, CHN) ,  LI Huiying (Jilin Univ., Jilin, CHN) ,  LIU Yunfei (Jilin Univ., Jilin, CHN) ,  DUAN Yu (Jilin Univ., Jilin, CHN) ,  DUAN Yu (Changchun Univ. Sci. and Technol., Jilin, CHN)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 8  ページ： 4714-4719  発行年： 2017年03月02日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZrO₂のリモートプラズマ増強原子層蒸着(R-PEALD)を,O₂プラズマとテトラキス(ジメチルアミノ)ジルコニウムをそれぞれOとZrの前駆体として,行った。反応機構を水晶結晶微量天秤と四極質量分析(QMS)により調べた。QMS分析ではCO₂,CO,NO,H₂Oなどとこれらの物質に関連したフラグメントがO₂プラズマ過程で検出された。FTIR測定により,異なる温度で蒸着された薄膜中の結合の様子を確認した。プラズマプロセスに特徴的な表面反応に対する蒸着温度の影響を調べた。薄膜の組成は蒸着温度によって変化した。高温の蒸着では-C≡N基が生じ,このことにより高温で成長速度は低下する。すなわち,-C≡NがZrO₂薄膜の成長をカットオフする。本研究はZrO₂薄膜の制御された成長をもたらす新たな切り口である。

シソーラス用語： プラズマ ,  化学蒸着 ,  *酸化ジルコニウム ,  *薄膜成長 ,  微量天秤 ,  四重極質量分析 ,  燃焼生成物 ,  ジルコニウム化合物 ,  *表面反応 ,  限界 ,  シアノ基 ,  成長速度 ,  温度依存性
準シソーラス用語： QMS【質量分析】 ,  *カットオフ ,  テトラキス(ジメチルアミノ)ジルコニウム ,  *リモートプラズマ ,  *原子層蒸着 ,  水晶結晶微量天秤

分類 (4件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  物理化学一般その他  (CB01030T) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (7件)： リモートプラズマ ,  増強 ,  原子層蒸着 ,  ZrO2 ,  成長 ,  カットオフ ,  現象