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J-GLOBAL ID：201702277433965469   整理番号：17A0618532

水溶液からの高純度銅の高分解能集束電子ビーム誘起堆積

Focused electron beam induced deposition of copper with high resolution and purity from aqueous solutions

著者 (3件)： ESFANDIARPOUR Samaneh (Univ. Kentucky, KY, USA) ,  BOEHME Lindsay (Univ. Kentucky, KY, USA) ,  HASTINGS J Todd (Univ. Kentucky, KY, USA)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 28  号： 12  ページ： 125301,1-14  発行年： 2017年03月24日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 集束電子ビーム誘起蒸着法を用いて,硫酸銅溶液から高純度の銅を高分解能で堆積させた。実験は走査電子顕微鏡を用いて加速電圧30kVで行った。以下の三種類の基板を用いた:1)スパッタ蒸着したCu被覆と高分子液体井戸を有するSi,2)Mn/Cu-Ta-TaN障壁層上に厚み1μmの電着Cu膜を有するSi,3)Cr膜をスパッタ蒸着したSi。実験前に,基板を酸素プラズマで清浄にした。電子ビームリソグラフィーを用いて微小井戸中にパターンを堆積させた。銅の堆積効率は有機金属気相銅前駆体で得られる効率を大幅に上回った。溶液中の界面活性剤の添加は稠密で高分解能のパターン形成を可能にし,堆積に利用可能な面積を広げた。

シソーラス用語： 電子ビームリソグラフィー ,  電子ビーム蒸着 ,  *硫酸銅 ,  水溶液 ,  純度 ,  *銅 ,  *化学蒸着 ,  パターン形成 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子ビーム ,  電子顕微鏡観察 ,  エネルギー分散X線分光分析
準シソーラス用語： 高純度 ,  *電子ビーム誘起堆積

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水溶液 ,  高純度 ,  銅 ,  高分解能 ,  集束 ,  電子ビーム誘起堆積