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J-GLOBAL ID：201702277634474341   整理番号：17A1764171

調整された電圧波形で励起された磁気容量結合アルゴンプラズマの加熱機構

Heating mechanisms of magnetized capacitively coupled argon plasmas excited by tailored voltage waveforms

著者 (5件)： Yang Shali (School of Physics, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Innocenti Maria Elena (Centre for Mathematical Plasma-Astrophysics, Department of Mathematics, University of Leuven, Leuven 3001, Belgium) ,  Zhang Ya (School of Science, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China) ,  Yi Lin (School of Physics, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Jiang Wei (School of Physics, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 6  ページ： 061311-061311-9  発行年： 2017年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 特定のタイプの調整された電圧波形を磁気容量結合プラズマに適用することにより,既知のように直流自己バイアス電圧が生成される。磁場が増加すると,加熱モード遷移が観察される。磁場が存在しない場合,電子エネルギー分布関数(EEDF)は,高調波の数が1から5に変化するにつれて,マクスウェル分布からの乖離が増加する。磁場を印加するとき,EEDFはマクスウェル分布になり,負の電力吸収は100Gの磁場で消滅する。さらに,高調波の数および磁場強度を増加させることによって,プラズマ密度およびイオン流束を大幅に増加させることができ,一方,イオンエネルギーは一方の電極である範囲で調整され,他方の電極では低く維持され,比較的一定に保たれる。これらの結果は,以前の研究と一致し,そのような構成が,イオンフラックスおよびイオンエネルギーを別々に制御し,さらに動作パラメータ空間を拡張することを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ ,  *磁化プラズマ ,  *分布関数 ,  *プラズマ密度 ,  正規分布 ,  *放射線束 ,  エネルギー ,  強度
準シソーラス用語： *容量結合プラズマ ,  *電子エネルギー分布関数 ,  Maxwell分布 ,  *イオンフラックス ,  イオンエネルギー ,  磁場強度

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ一般  (BJ02010B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電圧波形 ,  励起 ,  磁気 ,  容量結合 ,  アルゴン ,  プラズマ