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J-GLOBAL ID:201702278146791930   整理番号:17A0578366

ナノインデンテーションサンプル調製のためのラジオ周波数グロー放電スパッタリングの適用

Application of Radio Frequency Glow Discharge Sputtering for Nanoindentation Sample Preparation
著者 (5件):
資料名:
巻: 26  号:ページ: 1245-1250  発行年: 2017年03月 
JST資料番号: C0161B  ISSN: 1059-9495  CODEN: JMEPEG  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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微小材料の機械的応答を調べる手法としてナノインデンテーションが広く利用されるようになってきた。しかしながら,この手法で得られる情報は試験片の表面状態,特に粗さに強く影響を受けることが知られている。このため試験片の表面仕上げが重要であるが,通常用いられる電解研磨は貴金属や金属間化合物のような難溶性物質では適用しにくい課題がある。本研究においては,この課題に対してラジオ周波数グロー放電スパッタリング(rf-GD)の適用の有効性を調査した。供試材としてAl,CuおよびNiを用い,rf-GD,電解研磨および0.25μmのダイヤモンド砥粒を用いた研磨による表面仕上げを実施し,表面粗さ,EBSDパターンおよびナノインデンテーション挙動の評価を行なった。この実験から,rf-GD法は表面粗さについては電解研磨より劣るが,これは結果に影響を与えるほどのものではなく,本手法がナノインデンテーションの表面仕上げに有効であることを示唆した。
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分類 (2件):
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その他の表面処理  ,  材料試験 
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