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J-GLOBAL ID：201702278307037995   整理番号：17A1370583

高基板温度下における反応性マグネトロンスパッタリング堆積によるタンタル酸窒化物薄膜光触媒の調製

Preparation of tantalum oxynitride thin film photocatalysts by reactive magnetron sputtering deposition under high substrate temperature

著者 (7件)： HORIUCHI Yu (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  MINE Shinya (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  MORIYASU Madoka (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  ANPO Masakazu (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  ANPO Masakazu (Fuzhou Univ., Fujian, CHN) ,  KIM Tae-Ho (Sun Moon Univ., Asan, KOR) ,  MATSUOKA Masaya (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Research on Chemical Intermediates  (Research on Chemical Intermediates)
巻： 43  号： 9  ページ： 5123-5136  発行年： 2017年09月 
JST資料番号： A0851B  ISSN： 0922-6168  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性マグネトロンスパッタリング堆積のスパッタリング条件を最適化して,1073Kの基板温度において,一段階のスパッタリングによって,タンタル酸窒化物(TaON)薄膜光触媒が調製された。TaON薄膜光触媒の最適厚さが,可視光照射下における,水酸化に対する光電流値から求められた。TaON薄膜の光電気化学活性は,薄膜堆積後のNH₃気流中での熱処理とIrO₂ナノコロイドの担持によって増幅された。IrO₂を担持した,最適TaON薄膜光触媒は,可視光照射下のメタノール水溶液からのH₂発生が確認された。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  *酸化物 ,  *窒化物 ,  *タンタル化合物 ,  *薄膜 ,  *光触媒 ,  基板温度 ,  光照射 ,  光電流 ,  後熱処理 ,  アンモニア ,  酸化イリジウム ,  コロイド ,  ナノ粒子 ,  超微粒子 ,  分解反応 ,  水素発生反応
準シソーラス用語： ナノコロイド ,  可視光照射 ,  *酸窒化物 ,  水分解 ,  *反応性マグネトロンスパッタリング

分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  塩  (CD01050V) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (8件)： 基板温度 ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  タンタル ,  酸窒化物 ,  薄膜 ,  光触媒 ,  調製