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J-GLOBAL ID：201702278781153632   整理番号：17A1346306

金属ハードマスクを用いた深部反応性イオンエッチングによる新しいMEMSマイクログリッパの作製【Powered by NICT】

Fabrication of Novel MEMS Microgrippers by Deep Reactive Ion Etching With Metal Hard Mask

著者 (6件)： Bagolini Alvise (Fondazione Bruno Kessler, Micro Nano Fabrication and Characterization Facility, Trento, Italy) ,  Ronchin Sabina (Fondazione Bruno Kessler, Micro Nano Fabrication and Characterization Facility, Trento, Italy) ,  Bellutti Pierluigi (Fondazione Bruno Kessler, Micro Nano Fabrication and Characterization Facility, Trento, Italy) ,  Chiste Matteo (Fondazione Bruno Kessler, Micro Nano Fabrication and Characterization Facility, Trento, Italy) ,  Verotti Matteo (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Sapienza University of Rome, Rome, Italy) ,  Belfiore Nicola Pio (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Sapienza University of Rome, Rome, Italy)
資料名： Journal of Microelectromechanical Systems  (Journal of Microelectromechanical Systems)
巻： 26  号： 4  ページ： 926-934  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0357A  ISSN： 1057-7157  CODEN： JMIYET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクログリッパの新しいクラスの作製は絶縁体ウエハ基板と深い反応性イオンエッチングを用いたバルクマイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)技術を用いて実証した。ハードマスキングはスパッタしたアルミニウムとアルミニウム-チタン薄膜を用いたバルクエッチングの選択性を最大化するために実装した。金属マスクの使用に関連した微小粗さ問題は,異なるマスクの組合せとエッチングパラメータを試験することにより検討した。O_2流,SF_6圧力,ウエハ温度,及びバイアスパワーを検討し,マイクロマスキングに及ぼす各パラメータの影響を評価した。金属マスクの使用に関連した側壁損傷はシリコン基板と金属マスク間の誘電体層を介在させることにより除去した。専用櫛型駆動アンカーは埋め込み酸化膜までシリコン両面を安全にエッチングし,完成した構造物の最終湿式放出までウエハ完全性を保存するために実行した。最初完全なデバイスの電気的作動下で実現し,試験した。[2017 0039]Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *RIE【エッチング】 ,  構造物 ,  薄膜 ,  *MEMS ,  完全性 ,  ケイ素 ,  誘電体 ,  *深部 ,  安全性 ,  絶縁体 ,  櫛形
準シソーラス用語： 埋込み酸化膜 ,  シリコンウエハ ,  *マイクログリッパ ,  *ハードマスク , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ハードマスク ,  深部 ,  反応性イオンエッチング ,  MEMS ,  マイクログリッパ ,  作製