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J-GLOBAL ID：201702279798661917   整理番号：17A1374925

エバネッセント光多方位干渉造形法による次世代表面機能構造の創製(第1報)-RCWA法を用いた光学特性解析-

著者 (5件)： 増井周造 (東大) ,  鈴木裕貴 (東大) ,  道畑正岐 (東大) ,  高増潔 (東大) ,  高橋哲 (東大)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.L23  発行年： 2017年09月05日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年マイクロ,ナノオーダの複雑形状をもつ表面構造が,特徴的な光学特性を有することから,非常に注目を集めている。それらの表面構造を造形するために,我々はエバネッセント光の多光束干渉によって生じる複雑な強度分布を利用した造形法を提案している。本報では,提案手法で得られる構造を理論的に求め,造形される形状に対して厳密結合波理論(RCWA)法を用いて光学特性を解析した。(著者抄録)

シソーラス用語： *エバネセント波 ,  電磁場解析 ,  *リソグラフィー ,  *光干渉 ,  *微細加工 ,  *表面構造 ,  *反射防止膜 ,  造型 ,  *解析 ,  *光束 ,  干渉縞 ,  *形態 ,  可制御性 ,  形状測定
準シソーラス用語： RCWA【解析】 ,  干渉リソグラフィー ,  形状解析 ,  断面形状

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (4件)：

• Y. Ono, et al. ′′Antireflection effect in ultrahigh spatial-frequency holographic relief gratings.′′ Applied optics 26.6 (1987): 1142-1146.
• H. Kikuta, et al. ′′Achromatic quarter-wave plates using the dispersion of form birefringence.′′ Applied optics 36.7 (1997): 1566-1572.
• 鈴木裕貴ほか:エバネッセント露光型名の光造形法に関する研究(第26報)-多光束干渉によるミリオーダ領域のサブミクロン表面微細構造創製-,2017年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,2017,859-860
• 鈴木裕貴ほか:エバネッセント露光型名の光造形法に関する研究(第23報)-3光束干渉エバネッセント波造形の検討-,2015年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集, 2015,555-556

タイトルに関連する用語 (9件)： 多方位 ,  干渉 ,  造形 ,  次世代 ,  表面機能 ,  創製 ,  RCWA ,  光学特性 ,  解析