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J-GLOBAL ID:201702282052942823   整理番号:17A1374958

イオンビームスパッタ成膜による回転体ミラーの内面形状修正

著者 (3件):
資料名:
巻: 2017  号: 秋季(CD-ROM)  ページ: ROMBUNNO.M37  発行年: 2017年09月05日 
JST資料番号: Y0914A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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X線を高効率かつ色収差なくナノ集光する方法として回転体ミラーの開発が進められている。理想的な集光には,ミラー反射面においてRMS2nmの形状精度が必要となる。本研究では,イオンビームスパッタ法を用いたミラー内面成膜装置を開発した。内面における成膜厚さを制御することで形状を修正する。本発表では,回転体ミラー内面におけるスポット加工特性の評価とミラーの周方向における成膜実験を行った結果について報告する。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (3件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  特殊加工  ,  X線技術 
引用文献 (4件):
タイトルに関連する用語 (5件):
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