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J-GLOBAL ID:201702287919547758   整理番号:17A1906952

ミリ波応用のためのゲート挿入金属層を有するAlGaN/GaN型HEMTの熱安定性と小信号特性

Thermal stability and small-signal characteristics of AlGaN/GaN HEMTs with gate insertion metal layer for millimeter-wave applications
著者 (6件):
資料名:
巻: 35  号:ページ: 060601-060601-5  発行年: 2017年11月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 2166-2746  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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挿入ゲート金属がポストメタライゼーションアニーリング(PMA)プロセスを受けたGaNミリ波デバイスに及ぼす影響を調べた。PMAプロセスはゲート抵抗(Rg)を増加させ,最大発振周波数(fmax)の減少の原因となることが分かった。種々のゲート金属積層(Ni/AuやNi/Mo/Auなど)を含むラインパターンの関数として,抵抗を低温度から550°Cまでのアニーリング前後で調べた。Mo挿入層を持つ金属スタックは効果的にGaNへのAu拡散を抑制し,ゲート金属抵抗の増加を抑制した。Ni/Mo/Auゲートを用いて作製したSi上のAlGaN/GaN型高電子移動度トランジスタでは,Ni/Auゲートと比較して,安定なゲート信頼性,改善された電流崩壊特性と小信号特性が達成された。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
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13-15族化合物を含む半導体-半導体接合  ,  トランジスタ  ,  その他の電気・電子部品 

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