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J-GLOBAL ID：201702289735140597   整理番号：17A1090527

ホットスポット修復のためのILTでのレジスト3Dを意識したマスクソリューション

Resist 3D Aware Mask Solution with ILT for Hotspot Repair

著者 (6件)： SELINIDIS Kosta (Synopsys, Inc, TX, USA) ,  HOPPE Wolfgang (Synopsys, Inc., Aschheim/Dornach, DEU) ,  SCHMOELLER Thomas (Synopsys, Inc., Aschheim/Dornach, DEU) ,  DAM Thuc (Synopsys, Inc, CA, USA) ,  HOOKER Kevin (Synopsys, Inc, TX, USA) ,  XIAO Guangming (Synopsys, Inc, TX, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10147  ページ： 101470Q.1-101470Q.10  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： モデルベースSRAF配置,最適化のような新しい反転法はプロセスウィンドウやCDの改善に役立っている。これらの方法はレジストのz高さまたはスライスの測定に合致するように調節したコンパクトモデルに依存している。レジストをスライスした場合,トップロスやスカミングのような重要な故障モードが検出されない。本稿は,ILTプロセスウィンドウを改善するレジストプロファイルを意識したマスクパターン最適化を記す。この改善で通常のマスク補正プロセスでは対処できないクリティカルレジストパターンのトップとボトムパターニングの不良危険性を低減できる。理想的にはマスク最適化で完全厳密TCADレジストモデルを使うべきだが,TCADモデルはシミュレーションに時間がかかるので,TCADモデルレジスとプロファイルデータに合うコンパクトモデルを作成した。この新しいレジスト3Dを意識したILT測定でプロセスウィンドウの大きな改善が計られた。

シソーラス用語： *ホットスポット ,  リソグラフィー ,  *フォトレジスト ,  構造 ,  補正 ,  フォトリソグラフィー ,  許容範囲 ,  長さ ,  故障モード
準シソーラス用語： SRAF ,  クリティカルディメンジョン ,  コンパクトモデル ,  プロセスウィンドウ ,  モデルベースOPC ,  計算リソグラフィー ,  光近接効果補正 ,  *三次元構造 ,  *反転リソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： ホットスポット ,  修復 ,  レジスト ,  3D ,  意識 ,  マスク ,  ソリューション