文献

J-GLOBAL ID：201702294068613557   整理番号：17A1242588

薄膜の蒸着のための新しい直接液体注入低圧化学蒸着システム(DLI LPCVD)【Powered by NICT】

A Novel Direct Liquid Injection Low Pressure Chemical Vapor Deposition System (DLI-LPCVD) for the Deposition of Thin Films

著者 (11件)： Vervaele Mattias (KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium) ,  De Roo Bert (KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium) ,  Debehets Jolien (KU Leuven, Department of Materials Engineering, 3001 Heverlee, Belgium) ,  Sousa Marilyne (IBM Research GmbH, 8803 Rueschlikon, Switzerland) ,  Zhang Luman (KU Leuven, Department of Materials Engineering, 3001 Heverlee, Belgium) ,  Van Bilzen Bart (KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium) ,  Sere Stephanie (KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium) ,  Guillon Herve (Kemstream, 34000 Montpellier, France) ,  Rajala Markku (DCA Instruments, 20360 Turku, Finland) ,  Seo Jin Won (KU Leuven, Department of Materials Engineering, 3001 Heverlee, Belgium) ,  Locquet Jean-Pierre (KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium)
資料名： Advanced Engineering Materials  (Advanced Engineering Materials)
巻： 19  号： 8  ページ： null  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2018A  ISSN： 1438-1656  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,新たに開発した直接液体注入低圧化学気相堆積(DLI LPCVD)システムの使用を記述したが,これは制御された再現性ある方法で薄膜の堆積を可能にした。このシステムの能力は,前駆体テトラエチルオルトシリケート(TEOS)を用いて堆積したシリカ薄膜を介して記述した。薄膜の堆積は,パラメータによって制御される,堆積温度,ガスの分圧,および前駆体溶液の流れ速度など。堆積層の厚さは析出温度と時間を変えることによって簡単に変化させた。堆積した試料のX線反射率及び分光偏光解析法は,層の厚さは析出温度と時間によってよく制御されることを示した。,加えて,Auger電子分光法を用いて,溶媒としてシクロヘキサンを使用する選択を動機づけた。12.2Å分~ 1の成長速度が得られた。原子間力顕微鏡,Rutherford後方散乱分光法,Fourier変換赤外分光法,および液滴形状解析は,粗さ,組成,および疎水性を測定するために使用される。二酸化けい素の薄膜を新たに開発したDLI LPCVDシステムで成長することに成功した。このシステムは前駆体を変化させることによって広い範囲膜のに用いることができる。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 成長速度 ,  分圧 ,  *薄膜 ,  原子間力顕微鏡 ,  流速 ,  *LPCVD ,  疎水性 ,  Auger分光法 ,  前駆体 ,  Rutherford散乱分光法 ,  *低圧 ,  二酸化ケイ素 ,  液滴
準シソーラス用語： 分光偏光解析法 ,  X線反射率 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 偏光測定と偏光計  (BD07050K) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 薄膜 ,  蒸着 ,  注入 ,  低圧化学蒸着 ,  DLI ,  LPCVD