特許
J-GLOBAL ID:201703000166243040
インプリント装置、インプリント装置の動作方法および物品製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
大塚 康徳
, 大塚 康弘
, 高柳 司郎
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-057557
公開番号(公開出願番号):特開2017-174904
出願日: 2016年03月22日
公開日(公表日): 2017年09月28日
要約:
【課題】基板とモールドとの間の相対的な傾きを低減するために有利な技術を提供する。【解決手段】 インプリント装置は、基板の上のインプリント材にモールドを接触させ硬化させることによって該基板の上にパターンを形成するインプリント処理を行う。インプリント装置は、前記基板を保持する基板チャックを有する基板ステージ機構と、前記モールドを駆動するモールド駆動部と、前記モールド駆動部から受ける力によって生じる前記基板チャックの傾きを示す傾き情報に基づいて、前記インプリント処理における前記基板に対する前記モールドの相対的な傾きを調整するように前記モールド駆動部を制御する制御部と、を備える。【選択図】図8
請求項(抜粋):
基板の上のインプリント材にモールドを接触させ硬化させることによって該基板の上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記基板を保持する基板チャックを有する基板ステージ機構と、
前記モールドを駆動するモールド駆動部と、
前記モールド駆動部から受ける力によって生じる前記基板チャックの傾きを示す傾き情報に基づいて、前記インプリント処理における前記基板に対する前記モールドの相対的な傾きを調整するように前記モールド駆動部を制御する制御部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
Fターム (14件):
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AJ06
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F146AA31
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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