特許
J-GLOBAL ID：200903029548234020
インプリント・リソグラフィの散乱計測アラインメント
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-526254
公開番号（公開出願番号）：特表2006-516065
出願日： 2003年07月31日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：
インプリント・リソグラフィによって基板をパターン化する方法を開示する。インプリント・リソグラフィは液体を基板上に分配するプロセスである。テンプレートが液体に接触され、液体が硬化される。硬化した液体はテンプレート内に形成されつパターンのインプリントを含む。一実施形態では、基板上に予め形成された層に対するテンプレートの整列は散乱計測を用いて行われる。
請求項（抜粋）：
テンプレートのアライメント・マークを有するテンプレートと基板のアライメント・マークを有する基板との間のアラインメントを決定する方法であって、この方法は、
前記テンプレートと前記基板を重ね合せた状態で設置する工程と、
複数のアラインメント測定値を取得する工程と、
前記複数のアラインメント測定値を用いて前記テンプレートのアライメント・マークと前記基板のアライメント・マークの所望の空間的配向を識別し、整列のずれを決める工程と、
前記整列のずれに基づいて平均的ずれを決定する工程とを含む方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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