特許

J-GLOBAL ID：201703002536926411

露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 白石 健一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 大野 聖二 ,  小林 英了 ,  大谷 寛 ,  松野 知紘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-216513
公開番号（公開出願番号）：特開2017-021392
出願日： 2016年11月04日
公開日（公表日）： 2017年01月26日
要約：

【課題】液浸法に基づく露光処理及び計測処理を精度良く行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置(EX)は、投影光学系(PL)の像面側に液体(LQ)の液浸領域(AR2)を形成し、投影光学系(PL)と液浸領域(AR2)の液体(LQ)とを介して基板(P)を露光するものであって、液浸領域(AR2)を形成するための液体(LQ)の性質及び成分のうち少なくともいずれか一方を計測する計測装置(60)を備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して基板を露光する露光装置において、 前記液浸領域を形成するための液体の性質及び成分のうち少なくともいずれか一方を計測する計測装置を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：

G03F 7/20

FI (1件)：

G03F7/20 521

Fターム (22件)：

2H197AA06 ,  2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197BA09 ,  2H197BA17 ,  2H197BA21 ,  2H197CA03 ,  2H197CA05 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CD02 ,  2H197CD12 ,  2H197DB27 ,  2H197DB28 ,  2H197DB29 ,  2H197DC01 ,  2H197DC18 ,  2H197FA02 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (3件)

• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社
• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン