特許
J-GLOBAL ID:201703002591884558
エアロゾルデポジション装置及びエアロゾルデポジション法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
青木 篤
, 伊坪 公一
, 樋口 外治
, 小林 龍
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-082186
公開番号(公開出願番号):特開2014-205863
特許番号:特許第6094344号
出願日: 2013年04月10日
公開日(公表日): 2014年10月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 成膜基板を保持する基板保持部及び成膜ノズルを有する成膜室と、
前記成膜ノズルにエアロゾル状態の材料粒子を供給するエアロゾル発生部と、
前記エアロゾル発生部にキャリアガスを供給するキャリアガス供給部と、
前記成膜ノズル側に向いた第1面と、前記基板保持部側に向いた第2面と、前記第1面から前記第2面に向かって貫通する貫通孔を有し、前記成膜ノズルと前記基板保持部との間に配置される電気絶縁性の帯電板と、
前記貫通孔が前記帯電板を貫通する方向と交差する向きに、前記帯電板を移動させる駆動部と、
を備えるエアロゾルデポジション装置。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
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