特許
J-GLOBAL ID：201703002632508574
ナノインプリント用テンプレート、ナノインプリント用テンプレートを用いたパターン形成方法、およびナノインプリント用テンプレートの製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
太田 昌孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-069906
公開番号（公開出願番号）：特開2014-194960
特許番号：特許第6167609号
出願日： 2013年03月28日
公開日（公表日）： 2014年10月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ナノインプリント用テンプレートであって、
基板主面に、凸部を有する凹凸形状の転写パターンを備え、
前記凸部は、第一の側壁が傾斜形状および垂直形状を有するとともに、前記垂直形状の高さは凸部の高さの1/3以下であり、第二の側壁が垂直形状を有することを特徴とするナノインプリント用テンプレート。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, B29C 59/02 ZNM B
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
