特許
J-GLOBAL ID：201703002791284830
製造処理プロセスで用いられる濃度測定装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
西村 竜平
, 佐藤 明子
, 齊藤 真大
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-061777
公開番号（公開出願番号）：特開2013-234991
特許番号：特許第6176961号
出願日： 2013年03月25日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 流路を有し、該流路に製造処理プロセスで用いられる第1流体と同製造処理プロセスで用いられる濃度既知の第2流体とを排他的に流すとともに、該流路に流れている流体が前記第2流体かどうか及び校正可能か否かを示す状態信号を出力する本体装置とともに用いられるものであり、
前記流路を流れる流体における所定成分の濃度を測定する濃度測定部と、
前記本体装置から状態信号を受信する状態信号受信部と、
前記状態信号によって前記流路に第2流体が流れており、且つ、校正可能であると判断される期間に前記濃度測定部で測定された測定値である基準測定値を取得し、該基準測定値によって前記濃度測定部の校正を行う校正部とを有することを特徴とする濃度測定装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G01N 21/27 F
, G01N 21/27 Z
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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