【請求項1】 マイクロリソグラフィ用の投影露光装置であって、
光学素子と、
該光学素子を1自由度で偏倚させるマニピュレータと
を備え、該マニピュレータは、
前記光学素子を自由度方向及び該自由度方向とは逆方向に偏倚させる第1アクチュエータ及び第2アクチュエータであり、前記第1アクチュエータは、方向制御による前記光学素子の前記自由度方向の最小偏倚a1及び方向制御による前記光学素子の前記自由度方向の最大偏倚b1を含む第1制御範囲[a1,b1]からの第1変数α1により制御可能であり、前記第2アクチュエータは、方向制御による前記光学素子の前記自由度方向の最小偏倚a2及び方向制御による前記光学素子の前記自由度方向の最大偏倚b2を含む第2制御範囲[a2,b2]からの第2変数α2により制御可能である、第1アクチュエータ及び第2アクチュエータと、
前記アクチュエータを前記制御範囲[a1,b1]及び[a2,b2]それぞれで制御する制御デバイスと
を備えるマイクロリソグラフィ用の投影露光装置において、
前記マニピュレータは、畳み込みパラメータαを記憶するメモリを含み、ここで、
であり、前記光学素子を前記自由度方向に偏倚させるための制御である[a1,b1]からのα1及び[a2,b2]からのα2により行われる全制御に関して、以下の条件A〜D:
A α1
b2-αであり、前記第1アクチュエータ及び前記第2アクチュエータが共に前記光学素子を偏倚させ、
B α1>b1-αである場合、α2
IPC (2件):
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G02B 7/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
G03F 7/20 501
, G02B 7/00 B
引用特許:
出願人引用 (10件)
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投影露光機における撮像装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2003-553336
出願人:カールツアイスエスエムティーアーゲー
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特開平2-228265
-
圧電素子を用いたスキャナ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-067903
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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審査官引用 (12件)
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投影露光機における撮像装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2003-553336
出願人:カールツアイスエスエムティーアーゲー
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特開平2-228265
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圧電素子を用いたスキャナ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-067903
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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