特許
J-GLOBAL ID：201703003489835867
排ガス中の水銀処理システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
酒井 宏明
, 高村 順
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-203443
公開番号（公開出願番号）：特開2014-057913
特許番号：特許第6095923号
出願日： 2012年09月14日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ボイラからの排ガス中に含まれるHgを除去する排ガス中の水銀除去システムであって、
前記排ガス中に、塩化アンモニウム溶液を供給する塩化アンモニウム溶液供給手段と、
前記排ガス中のNOxを脱硝し、金属水銀(Hg0)を酸化する脱硝触媒を有する脱硝装置と、
前記排ガスを熱交換する熱交換器と、
前記排ガス中の煤塵を除去する集塵機と、
前記排ガス中の酸化水銀(Hg2+)をアルカリ吸収液により除去すると共に、排ガス中の硫黄酸化物を脱硫する湿式脱硫装置と、
前記排ガス中又は、前記湿式脱硫装置のアルカリ吸収液中に臭素化合物を供給する臭素化合物供給手段とを具備すると共に、
前記湿式脱硫装置内のアルカリ吸収液中の「臭素濃度/全溶存物質濃度」の値を0.25以上とすることを特徴とする排ガス中の水銀処理システム。
IPC (8件)：
B01D 53/64 ( 200 6.01)
, B01D 53/86 ( 200 6.01)
, B01D 53/50 ( 200 6.01)
, B01D 53/78 ( 200 6.01)
, C02F 1/52 ( 200 6.01)
, C02F 1/12 ( 200 6.01)
, C02F 1/04 ( 200 6.01)
, B01J 29/06 ( 200 6.01)
B01D 53/64 100
, B01D 53/86 222
, B01D 53/86 250
, B01D 53/50 240
, B01D 53/78
, C02F 1/52 ZAB K
, C02F 1/12
, C02F 1/04 C
, B01J 29/06 A
