特許
J-GLOBAL ID：201703003922098538

反応装置及び反応システム

発明者：
鎌田 博之

鎌田 博之 について

, 
吉野谷 拓哉

吉野谷 拓哉 について


出願人/特許権者：
株式会社IHI

株式会社IHI について


代理人 (5件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  高橋 俊一 ,  伊藤 正和 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-031863
公開番号（公開出願番号）：特開2017-148704
出願日： 2016年02月23日
公開日（公表日）： 2017年08月31日
要約：
【課題】改質反応における反応触媒表面への炭素析出を抑制しつつ酸化剤の供給量を削減可能な熱交換型の反応装置を提供する。【解決手段】反応装置は、熱媒流体を流通させる熱媒流路と、第一反応体(及び第二反応体)を含有する反応流体を流通させる反応流路と、反応流路の途中に第二反応体を補給するための補給路とを内部に有する熱交換体を有し、反応流路内に反応流体における反応を促進する触媒体が設けられる。熱交換体は、補給路が反応流路の途中と連通する複数の孔を有する。第一反応体及び第二反応体として水蒸気及び炭化水素を用いて水蒸気改質が行われる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
熱媒流体と反応流体との熱交換を利用して前記反応流体において反応を進行させる反応装置であって、 前記熱媒流体を流通させる熱媒流路と、第一反応体を含有する反応流体を流通させる反応流路と、前記反応流路の途中に第二反応体を補給するための補給路とを内部に有する熱交換体、及び、 前記反応流路内に設けられて前記反応流体における反応を促進する触媒体 を有する反応装置。
IPC (3件)：
B01J 19/24 ,  B01J 35/02 ,  C01B 3/38
FI (3件)：
B01J19/24 A ,  B01J35/02 F ,  C01B3/38
Fターム (71件)：
4G075AA45 ,  4G075BA05 ,  4G075BA10 ,  4G075BD12 ,  4G075CA02 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB14 ,  4G140EB23 ,  4G169AA03 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02A ,  4G169BA04A ,  4G169BA05A ,  4G169BA17 ,  4G169BB04A ,  4G169BC10A ,  4G169BC16A ,  4G169BC40A ,  4G169BC43A ,  4G169BC50A ,  4G169BC55A ,  4G169BC56A ,  4G169BC58A ,  4G169BC59A ,  4G169BC60A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169CB02 ,  4G169CB07 ,  4G169CB25 ,  4G169CB35 ,  4G169CB38 ,  4G169CB46 ,  4G169CB62 ,  4G169CB63 ,  4G169CB66 ,  4G169CB68 ,  4G169CB72 ,  4G169CB73 ,  4G169CB74 ,  4G169CB75 ,  4G169CB77 ,  4G169CB78 ,  4G169CB79 ,  4G169CB81 ,  4G169CC02 ,  4G169CC04 ,  4G169CC05 ,  4G169CC11 ,  4G169CC14 ,  4G169CC17 ,  4G169CC22 ,  4G169CC23 ,  4G169CC32 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02X ,  4G169EA11 ,  4G169EA18 ,  4G169FA04 ,  4G169FA06 ,  4G169FB13
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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