特許
J-GLOBAL ID：201703004539374978
フォトマスクの欠陥修正方法、及びフォトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
藤枡 裕実
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 後藤 直樹
, 伊藤 裕介
, 立石 英之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-045093
公開番号（公開出願番号）：特開2014-174249
特許番号：特許第6167568号
出願日： 2013年03月07日
公開日（公表日）： 2014年09月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 透明基板上の所定の遮光性を有する遮光膜をパターニングして透光部と遮光部とを設けたフォトマスクの欠陥修正方法であって、
前記フォトマスクは、前記透光部が、露光により転写される主透光部と、前記主透光部を透過する露光光に対して所定の位相差を有し露光により転写されない補助透光部と、を設けたレベンソン型位相シフトマスクであり、
前記透光部に欠陥が生じている場合に、前記欠陥を修正後、前記補助透光部に隣接する遮光部の、前記補助透光部との境界部分の遮光膜及び該遮光膜の下部の透明基板を所定量除去することによって、前記主透光部の露光光透過量を調整する工程を有することを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。
IPC (2件)：
G03F 1/72 ( 201 2.01)
, G03F 1/30 ( 201 2.01)
