気相成膜装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梶原康稔
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-209507
公開番号（公開出願番号）：特開2015-076417
特許番号：特許第6058515号
出願日： 2013年10月04日
公開日（公表日）： 2015年04月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】成膜用基板を保持するための基板保持部材を有する円板状サセプタ、前記基板を自公転せしめる機構、前記基板保持部材に対向しフローチャネルを形成する対向面、材料ガスの導入部及び排気部を有する気相成膜装置において、前記円板状サセプタと前記対向面との距離が前記基板の公転方向において変化するように、前記対向面に凹凸形状を施すとともに、前記材料ガスの導入部に円板状のインジェクタを有し、前記インジェクタに、前記対向面の凹凸形状の凸部と同じ位置に凸部を有し、前記対向面の凹凸形状の凹部と同じ位置に凹部を有する凹凸形状を施すことを特徴とする気相成膜装置。

IPC (2件)：