特許
J-GLOBAL ID：201703005783530945
近接露光装置及び近接露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人栄光特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-158204
公開番号（公開出願番号）：特開2013-054343
特許番号：特許第6142214号
出願日： 2012年07月16日
公開日（公表日）： 2013年03月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被露光材としての基板を保持する基板ステージと、
露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスクステージと、
前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、
を備え、前記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージは、
前記マスクを下面に真空吸着して保持するマスクホルダと、
前記マスクホルダの上面側に保持されるカバーガラスと、
少なくとも前記マスクホルダ、前記マスク、及び前記カバーガラスによって画成される空間内の空気を吸引して該空間内を減圧させる吸引機構と、
減圧された前記空間内に外部から空気を供給する少なくとも1つの空気導入路と、
前記マスクホルダを下面に真空吸着して保持し、マスク駆動部によって駆動されるマスクフレームと、
を備え、
前記空気導入路は、前記カバーガラスと前記マスクホルダとの接合部に配置される空気導入溝であることを特徴とする近接露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G02F 1/13 ( 200 6.01)
, H05K 3/00 ( 200 6.01)
G03F 7/20 501
, G02F 1/13 101
, H05K 3/00 H
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (19件)
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