特許
J-GLOBAL ID:201703006074970369

塗布装置および塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 机 昌彦 ,  下坂 直樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-052333
公開番号(公開出願番号):特開2017-164689
出願日: 2016年03月16日
公開日(公表日): 2017年09月21日
要約:
【課題】厚さの均一性が高い塗布膜が得られる簡素な機構の塗布装置を提供する。【解決手段】塗布装置は、スロットダイと、バックアップローラと、塗布液供給部と、バックアップローラ状態計測部と、温度制御部とを有する。塗布液供給部はスロットダイに塗布液を供給する。スロットダイはシート状の基材に塗布液を供給する。バックアップローラは、スロットダイとのギャップが所定範囲になるように基材を支持し、基材を走行させる。バックアップローラ状態計測部は、バックアップローラの状態を計測する。この状態とは、例えば寸法であり、例えば温度である。温度制御部は、塗布液供給部の温度を制御する。この制御は、バックアップローラ状態計測部が計測したバックアップローラの計測状態と予め定めた基準状態との差を小さくするように行う。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
シート状の基材に塗布液を供給するスロットダイと、 前記スロットダイに塗布液を供給する塗布液供給部と、 前記基材を支持および走行させるバックアップローラと、 前記バックアップローラの状態を計測するバックアップローラ状態計測部と、 前記バックアップローラ状態計測部の計測した前記バックアップローラの計測状態と予め定めた前記バックアップローラの基準状態との差が小さくなるように前記塗布液供給部の温度を制御する温度調節部と を有することを特徴とする塗布装置。
IPC (4件):
B05C 11/10 ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/00 ,  B05D 1/26
FI (4件):
B05C11/10 ,  B05C5/02 ,  B05C11/00 ,  B05D1/26 Z
Fターム (17件):
4D075AC05 ,  4D075AC96 ,  4D075CA48 ,  4D075DA04 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4F041AA12 ,  4F041AB01 ,  4F041BA47 ,  4F041CA02 ,  4F041CA13 ,  4F042AA22 ,  4F042BA19 ,  4F042CA01 ,  4F042CA08 ,  4F042CB26
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
  • 塗布装置及び塗布方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-282627   出願人:コニカ株式会社
  • 塗布装置および塗布方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-291742   出願人:富士写真フイルム株式会社
  • 塗工装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-158387   出願人:大日本印刷株式会社
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