特許
J-GLOBAL ID:201703006111521510

酸化亜鉛薄膜製造装置、マルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置、酸化亜鉛薄膜製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 堀 城之 ,  前島 幸彦 ,  長谷川 明 ,  村上 大勇 ,  小河 卓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-014003
公開番号(公開出願番号):特開2017-133070
出願日: 2016年01月28日
公開日(公表日): 2017年08月03日
要約:
【課題】導電性及び広帯域で光透過率の高いZnO薄膜を安価に得る。【解決手段】成膜チャンバ10の左側(基板100と反対側)には、円筒形状のベルジャ20が連結されている。ベルジャ20の外面の周囲には、その中心軸の周りにコイル21が巻回されており、コイル21には、13.56MHzの高周波電流を流すことができる。また、ベルジャ20内には、酸化性ガスを導入することができる。ベルジャ20内の中心軸付近には、線状のZnソース22Aが内部に設置されたオーブン22が設けられる。オーブン22の温度を上昇させることによって、Znソース22Aを加熱することができる。堆積方向におけるコイル21のベルジャ20に対する位置は、調整が可能とされる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板上に酸化亜鉛薄膜を形成する酸化亜鉛薄膜製造装置であって、 前記基板を減圧雰囲気下で収容する成膜チャンバと、 前記基板に対する前記酸化亜鉛薄膜の堆積方向における前記基板と反対側において、前記成膜チャンバと連結され、酸素を含む酸化性ガスが流されるベルジャと、 前記ベルジャの外部に装着され、高周波電力が印加されることによって前記ベルジャの内部における前記酸化性ガスをプラズマ化するプラズマ生成手段と、 内部に亜鉛材料を収容し、加熱されることによって前記亜鉛材料から亜鉛を蒸気化して前記基板の側に噴射するように前記ベルジャの内部に設けられたオーブンと、 を具備し、 前記プラズマ生成手段と前記基板との間の前記堆積方向に沿った間隔が調整可能とされたことを特徴とする酸化亜鉛薄膜製造装置。
IPC (2件):
C23C 14/32 ,  C23C 14/08
FI (2件):
C23C14/32 B ,  C23C14/08 C
Fターム (16件):
4K029BA49 ,  4K029BC09 ,  4K029BD01 ,  4K029CA04 ,  4K029DA03 ,  4K029DB18 ,  4K029DD02 ,  4K029EA06 ,  4K029HA01 ,  5F045AA08 ,  5F045AB22 ,  5F045AC11 ,  5F045BB08 ,  5F045CA13 ,  5F045DP03 ,  5F045EH11
引用特許:
審査官引用 (1件)
引用文献:
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