特許
J-GLOBAL ID:201703006854747793
フェノール誘導体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人 志賀国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-023577
公開番号(公開出願番号):特開2017-145244
出願日: 2017年02月10日
公開日(公表日): 2017年08月24日
要約:
【課題】リグニン含有材料から特定のフェノール誘導体を選択的に得ることが可能なフェノール誘導体の製造方法を提供する。【解決手段】溶媒中に、リグニン含有材料と、金属触媒と、酸触媒と、を含む溶液に、マイクロ波を照射する、フェノール誘導体の製造方法を選択する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
溶媒中に、リグニン含有材料と、金属触媒と、酸触媒と、を含む溶液に、マイクロ波を照射する、フェノール誘導体の製造方法。
IPC (3件):
C07C 45/57
, C07C 49/84
, C07B 59/00
FI (3件):
C07C45/57
, C07C49/84 E
, C07B59/00
Fターム (20件):
4H006AA02
, 4H006AC26
, 4H006AC84
, 4H006BA07
, 4H006BA11
, 4H006BA12
, 4H006BA16
, 4H006BA19
, 4H006BA23
, 4H006BA30
, 4H006BA55
, 4H006BA66
, 4H006BA95
, 4H006BB14
, 4H006BB17
, 4H006BB31
, 4H006BE30
, 4H006CN10
, 4H039CA99
, 4H039CE90
引用特許: