特許
J-GLOBAL ID：201703007209849910

対象物を熱処理するための装置と方法

発明者：
マーティン フュアファンガー

マーティン フュアファンガー について

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シュテファン ヨースト

シュテファン ヨースト について

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イェアク パルム

イェアク パルム について


出願人/特許権者：
サン-ゴバン グラス フランス

サン-ゴバン グラス フランス について


代理人 (2件)： アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  久野 琢也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-520964
特許番号：特許第6116685号
出願日： 2013年07月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 中空部(11)を画定する、特に気密に閉鎖可能なケーシング(3)を備えている、対象物(2)を、特にコーティングされた基板を熱処理する装置(1)において、 前記中空部(11)は離隔壁(20)を有しており、該離隔壁(20)によって前記中空部(11)は、前記対象物(2)を収容するプロセス空間(21)と、中間空間(22)とに分けられており、 前記離隔壁(20)は一つ又は複数の開口部(23,24)を有しており、該開口部(23,24)は、前記離隔壁(20)が、前記熱処理中には、前記対象物(2)の熱処理によって前記プロセス空間(21)に生じるガス状物質の、前記プロセス空間(21)から前記中間空間(22)への拡散に対するバリアとして機能し、前記熱処理前及び後には、前記プロセス空間(21)と前記中空空間(22)との間のガス交換を可能にするように構成されており、 前記ケーシング(3)は、該ケーシング(3)を能動的に冷却する冷却装置(14)と結合されている少なくとも一つの第1のケーシングセクション(9)を有しており、 前記離隔壁(20)は、前記対象物(2)と、冷却可能な前記第1のケーシングセクション(9)との間に配置されていることを特徴とする、装置(1)。
IPC (4件)：
H01L 21/26 ( 200 6.01) ,  H01L 21/324 ( 200 6.01) ,  H01L 31/0749 ( 201 2.01) ,  H01L 31/073 ( 201 2.01)
FI (4件)：
H01L 21/26 G ,  H01L 21/324 G ,  H01L 31/06 460 ,  H01L 31/06 420
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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