特許
J-GLOBAL ID:201703007683588213

インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高岡 亮一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-220209
公開番号(公開出願番号):特開2013-102137
特許番号:特許第6140966号
出願日: 2012年10月02日
公開日(公表日): 2013年05月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、 前記基板を保持面上に吸着して保持する保持工程と、 前記基板上の一部の領域である第1領域を変形させる変形工程と、 変形させた前記第1領域上のインプリント材と、前記型とを接触させる接触工程と、 前記型と接触している前記インプリント材を硬化させる硬化工程と、 硬化した前記インプリント材と前記型とを離す離型工程と、を備え、 前記変形工程の少なくとも一部の期間において、前記第1領域とは異なる第2領域に対応した前記基板の裏面を保持しつつ、前記第2領域に対応した前記基板の裏面を保持する吸着力よりも小さな吸着力で前記第1領域に対応した前記基板の裏面を保持することを特徴とするインプリント方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  B29C 59/02 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/30 502 D ,  B29C 59/02 ZNM Z
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (13件)
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