基板変形を利用したコンタクトリソグラフィ装置及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人アイ・ピー・エス
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-547327
公開番号（公開出願番号）：特表2010-517300
出願日： 2008年01月29日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：

【課題】基板変形を利用したコンタクトリソグラフィ装置及び方法を提供する。【解決手段】本発明に係るコンタクトリソグラフィ装置は、基板102を変化可能に保持する基板ホルダ110が、複数の保持ゾーン112を有し、前記複数の保持ゾーン112のそれぞれのものは、ゾーン固有の保持力を前記基板102に対して付与する、基板ホルダ110と、前記基板102の受領表面に隣接した状態でパターン122を具備するパターニングツール120とを有し、前記複数の保持ゾーン112によって付与された前記ゾーン固有の保持力は、前記パターニングツール120に向かう前記基板102の変形320を誘発し、前記変形320は、前記基板102に対して前記パターン122を転写300する際に、前記パターニングツール120と前記基板102の間に、初期接触点140と伝播330する接触前線の両方を形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板102を変化可能に保持する基板ホルダ110が、複数の保持ゾーン112を有し、前記複数の保持ゾーン112のそれぞれのものは、ゾーン固有の保持力を前記基板102に対して付与する、基板ホルダ110と、前記基板102の受領表面に隣接した状態でパターン122を具備するパターニングツール120とを有し、前記複数の保持ゾーン112によって付与された前記ゾーン固有の保持力は、前記パターニングツール120に向かう前記基板102の変形320を誘発し、前記変形320は、前記基板102に対して前記パターン122を転写300する際に、前記パターニングツール120と前記基板102の間に、初期接触点140と伝播330する接触前線の両方を形成するコンタクトリソグラフィ装置100、220。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/683

FI (3件)：

H01L21/30 505 , H01L21/30 502D , H01L21/68 P

Fターム (13件)：

5F031CA01 , 5F031CA07 , 5F031HA02 , 5F031HA14 , 5F031HA33 , 5F031LA11 , 5F031MA27 , 5F031PA14 , 5F031PA30 , 5F046AA28 , 5F046BA01 , 5F046CC01 , 5F046CC20

引用特許：

審査官引用 (13件)

スタンプから基板にパターンを転写する方法及び装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-506978 出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
密着露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-277830 出願人：大日本印刷株式会社
特開昭58-173727

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