特許
J-GLOBAL ID：201703007713617787

フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法

発明者：
吉川 裕

吉川 裕 について

, 
吉田 光一郎

吉田 光一郎 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (6件)： 特許業務法人 津国 ,  津国 肇 ,  柳橋 泰雄 ,  生川 芳徳 ,  石岡 隆 ,  柴田 明夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-105532
公開番号（公開出願番号）：特開2013-235037
特許番号：特許第6139826号
出願日： 2012年05月02日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 透明基板上に形成した半透光膜と遮光膜がパターニングされることにより形成された、透光部と半透光部と遮光部を含む転写用パターンをもつ、フラットパネルディスプレイ製造用のフォトマスクであって、 前記透光部は、5μm以下の幅で透明基板が露出してなり、 前記半透光部は、前記透明基板上に半透光膜が形成されてなり、かつ、前記透光部のエッジに沿って前記透光部を囲み、露光装置の解像限界以下の一定幅に形成されるとともに、対向する位置に形成された前記半透光部は、互いに対称に、同一幅に形成され、 前記遮光部は、露光光に対する光学濃度ODが3以上であって、前記透明基板上に前記半透光膜と前記遮光膜が積層されてなり、前記半透光部を囲んで形成され、 前記半透光膜は、露光光の代表波長に対する透過率が30〜50%、位相シフト量が90°以下であることを特徴とする、フォトマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/32 ( 201 2.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G03F 1/32 ,  G03F 7/20 501
引用特許：
審査官引用 (4件)
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