昇華ガス供給システムおよび昇華ガス供給方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人ユニアス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-101661
公開番号（公開出願番号）：特開2017-205736
出願日： 2016年05月20日
公開日（公表日）： 2017年11月24日
要約：

【課題】供給される固体材料の昇華ガス濃度を安定させること、さらに安定した濃度の昇華ガスを連続供給させることができる昇華ガス供給システムを提供する。【解決手段】昇華ガス供給システムは、容器11と、容器11を加温するヒータ12と、容器圧力計14で測定された圧力が、昇華ガスの飽和蒸気圧である場合に容器11から昇華ガスを真空状態下で導入するように構成される真空容器T1と、真空容器T1に昇華ガスを導入している際の真空容器内の圧力に基づいて、希釈用ガス中の昇華ガスを所定濃度に制御するように、希釈用ガスの流量を制御する流量制御部と、希釈用ガス中の昇華ガスが所定濃度に達した場合に、昇華ガスを真空容器T1から後段のプロセスに導出する導出ラインとを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

固体材料から生じる昇華ガスを後段のプロセスに供給するための昇華ガス供給システムであって、固体材料を収納する容器と、前記固体材料の昇華ガスを生じさせるように、前記容器を加温する容器加温部と、前記容器内の圧力を測定する容器圧力計と、前記容器圧力計で測定された圧力が、昇華ガスの飽和蒸気圧である場合に、前記容器から前記昇華ガスを、所定の負圧範囲の状態で導入するように構成される真空容器と、前記真空容器に希釈用ガスを導入する希釈用ガスラインと、前記真空容器内の圧力を測定する圧力計と、前記真空容器に前記昇華ガスを導入している際の前記真空容器内の圧力に基づいて、前記真空容器内の前記希釈用ガス中の昇華ガスを所定濃度に制御するように、前記希釈用ガスの流量を制御する流量制御部と、前記希釈用ガス中の昇華ガスが前記所定濃度に達した場合に、前記昇華ガスを前記真空容器から後段のプロセスに導出する導出ラインと、前記真空容器を真空状態にする真空ポンプと、を有する、昇華ガス供給システム。

IPC (3件)：

B01J 4/00 , C23C 16/448 , B01J 7/00

FI (3件)：

B01J4/00 102 , C23C16/448 , B01J7/00 Z

Fターム (34件)：

4G068AA01 , 4G068AB03 , 4G068AC05 , 4G068AD36 , 4G068AD40 , 4G068AF01 , 4G068AF36 , 4G068DA04 , 4G068DB06 , 4G068DD03 , 4G068DD11 , 4G077BA01 , 4G077DA02 , 4G077DB11 , 4G077EG22 , 4G077EG26 , 4G077TC01 , 4G077TC07 , 4G077TC08 , 4G077TC09 , 4G077TH00 , 4K030AA17 , 4K030AA18 , 4K030EA01 , 4K030HA11 , 4K030HA15 , 4K030JA06 , 4K030KA22 , 4K030KA39 , 4K030KA41 , 5F045AA06 , 5F045AA15 , 5F045EE02 , 5F045EE04

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平3-141192
固体材料の気化量モニタリングシステムおよびモニタリング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-264378 出願人：日本エア・リキード株式会社
特開昭60-244332

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審査官引用 (9件)

特開平3-141192
固体材料の気化量モニタリングシステムおよびモニタリング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-264378 出願人：日本エア・リキード株式会社
特開平3-141192

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