特許
J-GLOBAL ID：201703009031167693
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-047599
公開番号（公開出願番号）：特開2014-026260
特許番号：特許第6051968号
出願日： 2013年03月11日
公開日（公表日）： 2014年02月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される酸発生剤と、酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
[式(I)中、
R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアシル基、炭素数2〜7のアシルオキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。
m及びnは、それぞれ独立に、0〜4の整数を表し、mが2以上の場合、複数のR1の全部又は一部は同じであってもよく、nが2以上の場合、複数のR2の全部又は一部は同じであってもよい。
A-は、有機アニオンを表す。]
IPC (8件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C07C 63/70 ( 200 6.01)
, C07C 309/17 ( 200 6.01)
, C07C 309/06 ( 200 6.01)
, C07C 381/12 ( 200 6.01)
, C07C 25/18 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, C07C 63/70
, C07C 309/17
, C07C 309/06
, C07C 381/12
, C07C 25/18
