特許
J-GLOBAL ID：201403057732199559

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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安江 崇裕

安江 崇裕 について

, 
藤田 真吾

藤田 真吾 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-225063
公開番号（公開出願番号）：特開2014-115624
出願日： 2013年10月30日
公開日（公表日）： 2014年06月26日
要約：
【課題】優れたパターン倒れ耐性でレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される構造単位及び式(a4)で表される構造単位を含み、かつ、酸不安定基を有さない樹脂、酸不安定基を有する樹脂、並びに、式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式(I)中、R2は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表す。但し、L1との結合位置にある炭素原子に結合する水素原子は、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基で置換されない。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位及び式(a4)で表される構造単位を含み、かつ、酸不安定基を有さない樹脂、 酸不安定基を有する樹脂、並びに、 式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  C08F20/10 ,  H01L21/30 502R
Fターム (60件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF27P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC17 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA15S ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100BC84Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (7件)
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