特許
J-GLOBAL ID：201703009048111799

フォトレジスト組成物

発明者：
生井 準人

生井 準人 について

, 
池田 憲彦

池田 憲彦 について

, 
川上 峰規

川上 峰規 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (1件)： 天野 一規
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-506104
特許番号：特許第6052283号
出願日： 2013年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 [A]酸解離性基を含む構造単位(I)を有する重合体、及び 下記式(1)で表される化合物(I) を含有するフォトレジスト組成物。 (式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基である。R3及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。これらのR1、R2、R3及びRのうちのいずれか2つが互いに結合して環構造を形成してもよい。Xは、単結合、酸素原子又は-NRa-である。このRaは、水素原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜20の1価の有機基であり、上記Rと互いに結合して環構造を形成してもよい。A-は、-SO3-又は-CO2-である。M+は、1価のオニウムカチオンである。但し、A-が-CO2-の場合、R1、R2、R3及びRは、同時に水素原子である場合はない。)
IPC (22件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C07C 309/17 ( 200 6.01) ,  C07C 303/20 ( 200 6.01) ,  C09K 3/00 ( 200 6.01) ,  C07D 207/416 ( 200 6.01) ,  C07D 295/18 ( 200 6.01) ,  C07D 493/10 ( 200 6.01) ,  C07D 307/94 ( 200 6.01) ,  C07D 311/74 ( 200 6.01) ,  C07D 317/24 ( 200 6.01) ,  C07D 327/04 ( 200 6.01) ,  C07D 307/33 ( 200 6.01) ,  C07D 307/64 ( 200 6.01) ,  C07D 211/46 ( 200 6.01) ,  C07D 237/04 ( 200 6.01) ,  C07D 237/16 ( 200 6.01) ,  C07D 319/06 ( 200 6.01) ,  C07D 321/12 ( 200 6.01) ,  C07D 307/93 ( 200 6.01) ,  C07D 313/06 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  C07C 381/12 ( 200 6.01)
FI (23件)：
G03F 7/004 501 ,  C07C 309/17 CSP ,  C07C 303/20 ,  C09K 3/00 K ,  C07D 207/416 ,  C07D 295/18 Z ,  C07D 493/10 A ,  C07D 307/94 ,  C07D 311/74 ,  C07D 317/24 ,  C07D 327/04 ,  C07D 307/32 Q ,  C07D 307/64 ,  C07D 211/46 ,  C07D 237/04 ,  C07D 237/16 ,  C07D 319/06 ,  C07D 321/12 ,  C07D 307/93 ,  C07D 313/06 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  C07C 381/12
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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