特許
J-GLOBAL ID：201003073447817610

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
羽田 英夫

羽田 英夫 について

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内海 義之

内海 義之 について

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本池 直人

本池 直人 について

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鈴木 健太

鈴木 健太 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-025102
公開番号（公開出願番号）：特開2010-111653
出願日： 2009年02月05日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：
【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含む露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (5件)：
C07C 309/17 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12
FI (6件)：
C07C309/17 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12
Fターム (14件)：
2H025AA04 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92
引用特許：
審査官引用 (6件)
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