特許
J-GLOBAL ID：201103021901222690

レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者：
杉原 昌子

杉原 昌子 について

, 
平岡 崇志

平岡 崇志 について

, 
宮川 貴行

宮川 貴行 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-299018
公開番号（公開出願番号）：特開2011-138060
出願日： 2009年12月29日
公開日（公表日）： 2011年07月14日
要約：
【課題】この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたCD均一性を有するパターンを得ることを目的とする。【解決手段】樹脂、式(1)及び式(2)で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。 [式(1)及び(2)中、Q1〜Q4はそれぞれ独立にF又はC1-6ペルフルオロアルキル基;X1及びX2は、単結合又は2価のC1-17飽和炭化水素基;Y1はアルキル基で置換されていてもよいC3-36飽和環状炭化水素基;Y2は、少なくとも1つのHがヒドロキシ基又はC1-6ヒドロキシアルキル基で置換されているC3-36飽和環状炭化水素基、C3-36ラクトン/C3-36環状ケトン/C3-36スルトン骨格を有する環状基;P1〜P3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいC3-36芳香族炭化水素基/C1-6脂肪族炭化水素基を表し、P1〜P3のうちの2つが互いに結合して環を形成してもよい。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
樹脂、式(1)で表される酸発生剤及び式(2)で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。
IPC (9件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  C07C 309/17 ,  C07C 381/12 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027 ,  C07D 307/93 ,  C07D 327/04
FI (10件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/38 511 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R ,  C07D307/93 ,  C07D327/04
Fターム (37件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF21P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN65P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125FA03 ,  4C023AA01 ,  4C037UA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81 ,  4H006TN10 ,  4H006TN30 ,  4H006TN40 ,  4H006TN60 ,  4H006TN90
引用特許：
審査官引用 (7件)
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