特許
J-GLOBAL ID：201703009434917897
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-062866
公開番号（公開出願番号）：特開2014-186271
特許番号：特許第6097611号
出願日： 2013年03月25日
公開日（公表日）： 2014年10月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有し、
該基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基であって単環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a1-1)と、を有する高分子化合物(A1)を含有し、
該単環式基を含む酸分解性基が、下記一般式(a1-r-2)で表される酸解離性基を含むことを特徴とするレジスト組成物。
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。Ya01は単結合又は2価の連結基である。X01は硫黄原子又は酸素原子である。Ra01は置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。]
[式中、Ra’4〜Ra’6はそれぞれ炭化水素基であって、Ra’5、Ra’6は互いに結合して環を形成してもよい。]
IPC (2件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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