表面保護シート

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：籾井孝文 , 吉田昌靖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-154162
公開番号（公開出願番号）：特開2017-014514
出願日： 2016年08月05日
公開日（公表日）： 2017年01月19日
要約：

【課題】剥離後の被着体表面への粘着剤の残留が少なく、被着体である塗装板表面のセルフクリーニング性を損なわない表面保護シートの提供。【解決手段】基材層1と粘着剤層2とを備える表面保護シート10で、厚みが10〜200μmであり、粘着剤層2を構成する粘着剤に含まれる主成分が、ポリマーAを架橋したポリマーPであり、架橋がエポキシ系架橋剤により行われ、ポリマーAが、(メタ)アクリレートモノマーを主成分とするモノマー組成物を重合したアクリル系ポリマーであり、モノマー組成物がカルボキシル基含有モノマーを含み、ポリマーAの重量平均分子量Mwが500000〜1000000であり、シリコンウエハに表面保護シート10を貼り付けて40°Cで24時間放置した後に23°Cの温度環境下に置いて表面保護シート10を剥離した後の該シリコンウエハの表面の光電子分光分析によるC/Si比が0.4以下である表面保護シート10。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材層と粘着剤層とを備える表面保護シートであって、厚みが10〜200μmであり、該粘着剤層を構成する粘着剤に含まれる主成分が、ポリマーAが架橋されたポリマーPであり、該架橋がエポキシ系架橋剤を使用してなされ、該ポリマーAが、(メタ)アクリレートモノマーを主成分とするモノマー組成物を重合して得られるアクリル系ポリマーであり、該モノマー組成物がカルボキシル基含有モノマーを含み、該ポリマーAの重量平均分子量Mwが500000〜1000000であり、シリコンウエハに該表面保護シートを貼り付けて40°Cで24時間放置した後に23°Cの温度環境下に置いて該表面保護シートを剥離した後の該シリコンウエハの表面の光電子分光分析によるC/Si比が0.4以下である、表面保護シート。

IPC (2件)：

C09J 7/02 , C09J 133/06

FI (2件)：

C09J7/02 Z , C09J133/06

Fターム (19件)：

4J004AA10 , 4J004AB01 , 4J004CA03 , 4J004CA06 , 4J004CB03 , 4J004CC02 , 4J004DB02 , 4J004FA04 , 4J040DF031 , 4J040EC002 , 4J040GA07 , 4J040JA09 , 4J040JB09 , 4J040LA01 , 4J040MA02 , 4J040MA05 , 4J040MB05 , 4J040MB09 , 4J040PA33

引用特許：

審査官引用 (13件)

表面保護フィルム用粘着剤組成物およびそれを用いた表面保護フィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-322409 出願人：日本合成化学工業株式会社
半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-174301 出願人：三井化学株式会社
粘着シート
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-286750 出願人：株式会社有沢製作所

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